Маска для лица и шеи Perfecta Fenomen C 20% Mask, 60 мл

Хотите дополнительного ухода за лицом и зоной декольте? Попробуйте уникальную маску Perfecta Fenomen C 20% Mask. Здоровая, красивая кожа и быстрый результат гарантирован!

Преимущества продукта

маска для лица и шеи характеризуется:

• рядом натуральных компонентов,

• нежной текстурой, которая оставляет приятный финиш,

• заметным результатом уже после первого применения.

Как действует?

Уникальная формула маски на основе глицерина, лецитина, пантенола и других полезных компонентов глубоко и эффективно питает и увлажняет кожу, выравнивает тон, борется с пигментными пятнами, имеет легкий лифтинг-эффект.

С чем использовать?

Сочетайте использование маски с очищающими средствами молочком, пенкой или гелем для умывания, тоником. Также расширить уход можно с помощью скраба или пилинга, крема, сыворотки и др.

Вода, Лецитин, Сорбитол, Аскорбил Глюкозид, Пантенол, Глюкоза, Трилаурет-4 Фосфат, Глицерин, Дикаприлиловый Эфир, Сополимер Акрилатов Натрия, Лецитин, Диметикон, Изогексадекан, Аскорбил Тетраизопальмитат, Терминалия Фердинандиана Фруктовый Экстракт, Этилгексил Кокоат, Диметиконол, Токоферол, Глицин Соевое Масло, Ретинол, Диметилметокси Хроманол, Гиалуронат Натрия, Феноксиэтанол, Оксиацетофенон, Октадецил-Ди-Т-Бутил-4-Гидроксигидроциннамат, Альфа-Изометил Ионон, Гексил Циннамал, Лимонен, Citronellol, Линалоол, Бутилфенил Метилпропионал, Гераниол, Бензил Салицилат, Гидроксицитронеллаль, Парфюм, CI 16035, CI 15985.

Нанести на чистую кожу лица, шеи и декольте.